Coșul este gol!
Demachiant facial extra-bland pentru tenul uscat, Clinique All About Clean, 200 ml
Acest demachiant facial de la Clinique cu formula sa extrem de blanda indeparteaza impuritatile, machiajul si excesul de ulei fara a usca tenul, mentine echilibrul natural de umiditate al tenului, lasandu-l proaspat si moale dupa fiecare utilizare. Formulat fara parfumuri sau coloranti, acest produs de curatare este ideal pentru persoanele cu tenul uscat si sensibil.
Beneficii:
• formula extrem de blanda
• indeparteaza impuritatile, machiajul si excesul de ulei
• nu usuca tenul
• mentine echilibrul natural de umiditate
• formulat fara parfumuri sau coloranti
Tip ten: uscat, sensibil
Utilizare:
Aplicati o cantitate potrivita de produs pe o discheta de bumbac si curatati delicat tenul pana machiajul, murdaria si impuritatile sunt indepartate in totalitate. Continuati cu rutina de ingrijire a tenului.
Ingrediente principale:
Glicerina: ofera o hidratare echilibrata tenului, prevenind uscarea si mentinand o senzatie de confort.
Cocamidopropyl Betaine: un surfactant usor care indeparteaza impuritatile si machiajul fara a deteriora bariera tenului.
Extract de musetel: ajuta la reducerea rosetii si calmeaza tenul.
Ingrediente:
Apa, trigliceride caprilice/caprice, glicerina, ulei de fructe de olea europaea (masline),butilenglicol, fenil trimeticona, extract de fructe de cucumis sativus (castraveti),extract de hordeum vulgare (orz)\extrait d'orge, helianthus annuus ( floarea-soarelui) prajitura de seminte, dimeticona, hialuronat de sodiu, acetat de tocoferil, glicirhizat dipotasic, colesterol, stearat de zaharoza, zaharoza, cofeina, eter de metil glucoza ppg-20, uree, pca de sodiu, acid linoleic, propilen glicol dicaprat, pentita (propilen glicol dicaprate),glicol, policaterniu-51, trehaloza, caprylil glicol, acriloildimetiltaurat de amoniu/copolimer vp, fenoxietanol.
Listele de ingrediente continute in compozitia produselor sunt actualizate periodic. Verificati lista de ingrediente de pe ambalaj inainte de a utiliza produsul.